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ドライプロセスのワークショップ

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Plasma Technology

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Agenda

2019年9月17日(火) 2019年9月18日(水)
MEMS用途に向けたドライエッチング オックスフォード・インストゥルメンツ イオンビームエッチングによるInPとGaAsのエッチング オックスフォード・インストゥルメンツ
電界放射型走査プローブ イルメナウ工科大学 Martin Hofmann プラズマ酸化SiC-SiO2積層の遷移層の特性調査 ウイーン工科大学 Johannes Schalko ISAS Gernot Flecki
プラズマALDにおける基板バイアスによる、材料特性の向上 オックスフォード・インストゥルメンツ Harm Knoops 磁性材料のエッチングを含む、イオンビーム用途のエンドポイント オックスフォード・インストゥルメンツ
原子層エッチング(ALE)
オックスフォード・インストゥルメンツ PECVDに対する効率的なプラズマ洗浄 オックスフォード・インストゥルメンツ
RFおよびパワーデバイス用途に向けた、ビアホールおよび形状のSiCエッチング オックスフォード・インストゥルメンツ プラズマベースの処理を用いたZnO光電子工学 ウイーン工科大学FKE&ZMNS  Borislav Hinkov
光電子工学に向けたグラフェンおよび2D材料ベースのデバイス:CVD、ALD、RIE、ALE オックスフォード・インストゥルメンツ ダイアモンド・エッチング-応用と課題 オックスフォード・インストゥルメンツ
エンドポイント検出とプラズマ洗浄プロセスを含めた、InPエッチングプロセスのレビュー オックスフォード・インストゥルメンツ ICP RIEとALEによる低損傷エッチング オックスフォード・インストゥルメンツ
プラズマ・デポジション PECVDとICP PECVDの比較 オックスフォード・インストゥルメンツ 低損失の光集積部品に向けたシリコン・エッチング オックスフォード・インストゥルメンツ
VCSEL製造に向けたAlGaAs/GaAs処理のレビュー オックスフォード・インストゥルメンツ ダブル金属導波路―高機能テラヘルツQCLに向けた製作 ウイーン工科大学ZMNS  Martin Kainz
バンド間カスケードレーザーのリッジ導波路のディープエッチング ウイーン工科大学FKE&ZMNS  Johannes Hillbrand 診断と生命科学用オンチップ生物医学デバイスの製作-関連するプラズマ処理技術の概要 オックスフォード・インストゥルメンツ
ポスターセッションとラボ見学 VOxと他材料のナノレイヤーのイオンビームデポジション オックスフォード・インストゥルメンツ
コンファランス・ディナー 最終討議

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Cost Per Person: Euro 240, for coffee / lunches during the workshop hours and one dinner on 17th of September