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関連: 半導体・マイクロエレクトロニクス・データストレージ

幅広い材料システムでのデバイス製造のためのプラズマアシストエッチングおよび蒸着ソリューション

パワー半導体製造ソリューション

電気自動車(EV)などの新技術では、高効率な電力変換が求められるため高性能であることが必要です。SiCやGaNなどの材料を使用することでエネルギー損失を低減できます。原子層堆積法(ALD))や、プラズマエッチング・デポジション手法により、プロセスが最適化され高効率なデバイス生成が可能になります。当社のALDは、優れたパッシベーションにより、GaN/AlGaNデバイスのしきい値電圧のゆらぎを低減します。

GaNSiCの両方に対する当社のエッチングプロセスは、最小限のダメージで高品質なサイドウォールを生成し、最高のパフォーマンスを保証します。

Fabrication figure 1
Fabrication figure 2
Fabrication figure 3

Semiconductor Laser Fabrication Solutions

電気自動車(EV)などの新技術では、高効率な電力変換が求められるため高性能であることが必要です。SiCやGaNなどの材料を使用することでエネルギー損失を低減できます。原子層堆積法(ALD))や、プラズマエッチング・デポジション手法により、プロセスが最適化され高効率なデバイス生成が可能になります。当社のALDは、優れたパッシベーションにより、GaN/AlGaNデバイスのしきい値電圧のゆらぎを低減します。

GaNSiCの両方に対する当社のエッチングプロセスは、最小限のダメージで高品質なサイドウォールを生成し、最高のパフォーマンスを保証します。

レーザーには、高速通信からLiDARによる自動運転車の実現まで、様々なアプリケーションがあります。オックスフォード・インストゥルメンツは、長くレーザーダイオードに必要なIII-V族材料のプロセスを開発してきました。 どのような材料であっても究極の加工制御は不可欠であり、当社ではAlGaNからInPまでに対応するプロセスを提供します。

レーザーアプリケーション用のプロセスソリューション

Fabrication figure 4
Fabrication figure 5
Fabrication figure 6
AFM for Semiconductor and Microelectronics Research AFM Tools for Nanoscale Electrical Characterisation Plasma Process Solutions for Power Devices Plasma Process Solutions for RF Devices Plasma Process Solutions for HBLED Applications Plasma Process Solutions for Laser Applications Plasma Process Solutions for Infrared Sensor Applications Plasma Process Solutions for 2D Materials Plasma Process Solutions for MEMS and Sensor Applications Elemental and structural characterisation Elemental and Structural Characterisation

プロダクト

AZtecWaveは、スピーディでフレキシブルなEDS分析に、WDS独自のピーク分離や微量元素定量の能力を組み合わせます。Wave WDSは、SEM用として最高のスペクトル分解能を持ち、X線ピークのオーバーラップ解決や、より低い検出限界を実現します。高カウントレート条件下でも最高の精度を発揮するEDS検出器Ultim…

Wave

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