異物解析

高度な製造技術が求められる分野において清浄度管理は重要です。しかし、技術の進歩と共に対象とされる異物サイズは小さくなり、 SEM/EDSを用いた方法では難しくなっています。

そこでTEM/EDSによる解析が注目されており、TEM/EDS解析を効率良く行うために異物の位置を迅速かつ正確に把握するローカリゼーション法と組成分析手法の組み合わせが極めて重要になります。

オックスフォード・インストゥルメンツでは大口径でダメージが少ないEDSを始め、この課題を解決するために最適な装置を提供しています。

異物ローカリゼーション

大型試料対応AFM（原子間力顕微鏡）「Jupiter XR」

「Jupiter XR」AFM システムが提供する「広域・高速スキャン」、「光熱励振タッピングモード」、「座標補正機能」、「オートパイロット」などの機能が、従来 AFM の常識を覆すスピードと精度でナノメートルサイズの欠陥・異物を検出します。

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自動多点ウェハイメージングソフトウェア「Ergo」

他の欠陥検査装置で得た座標をアップロードし、”スタート”ボタンを押すだけです。Ergoは各点を自動測定するだけでなく、AutoPilot™（オートパイロット）アルゴリズムにより最適化されたスキャンパラメータで高品質で一貫性のあるデータを生成します。

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MicroPointレーザーマーキングシステム

光学顕微鏡に取付けて微細なマーキング / 加工が可能です。

組成分析

EDS（エネルギー分散型X 線分析装置）

EDSは、SEM, TEM, FIB内の試料の元素分析および化学組成分析を行う手法です。

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OmniProbeナノマニピュレーター

FIB-SEMでのTEMラメラ作成用に設計・最適化された第9世代のナノマニピュレーターにより、高スループットのリフトアウトを実現。

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不良解析

半導体評価において、デバイスの信頼性や寿命を検討する上で電気特性評価は重要な評価法の一つです。オックスフォード・インストゥルメンツでは、局所的な絶縁破壊試験やキャリア濃度及びドーパントタイプ（p-type vs n-type）等の情報を評価するためのユニークなツールを提案しています。

SCM（走査型キャパシタンス顕微鏡）

SCMは、マイクロ波RF信号を利用して、半導体などの電荷キャリアの位置、ドーパント濃度およびドーパントタイプ等をナノ領域で可視化するイメージング技術です。

Nano-TDDB (Time Dependent Dielectric Breakdown: 酸化膜破壊試験)

Nano-TDDBは、ナノスケールの精度で誘電体薄膜の破壊電圧を検出でき、その特性評価が可能です。導電性AFMプローブを流れる電流をモニタリングしながら、最大±220 V の一定または勾配変化させたバイアスを印加できます。

ラフネス評価

原子間力顕微鏡（AFM）は、成膜・研磨・加工などの製造条件や、品質管理評価などに利用されてきましたが、測定時間が長いというのが課題でした。オックスフォード・インストゥルメンツ 社製 AFMは、この「評価技術の高スループット化」に貢献する実用的なAFM です。

HDD のラフネス評価（10Hz, 512x512）

15時間にわたり1000イメージを連続取得した
ナノラフネス測定をムービーにしました。

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大型試料対応AFM「Jupiter XR」

独自のblue Drive 光熱励振タッピングにより、
安定した再現性の高いナノ粗さ測定が可能です。

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