オックスフォード・インストゥルメンツー事業部ページ
拡張
オックスフォード・インストゥルメンツ
アプリケーション
プロダクト
ニュース
イベント
お問い合わせ
IR情報採用情報 新卒採用情報 ニュースイベントお問い合わせ
IR情報 採用情報
About Us
当社の最新設備当社の設備ニュースイベント製造向けソリューション研究開発向けソリューションサステナビリティ
マーケット
2次元材料拡張現実バイオメディカルデバイス故障解析高輝度LED
MEMS・センサーIRセンサーレーザーマイクロLED
パワーデバイス量子技術RFデバイスVCSEL
テクノロジー
プラズマエッチングリアクティブイオンエッチング (RIE)プラズマRIE (RIE-PE)誘導結合プラズマ RIE (ICP RIE)シリコン深堀 RIE (DRIE)プラズマ研磨ドライエッチング (PPDE)
イオンビーム
イオンビームデポジション (IBD)イオンビームエッチング (IBE)
プラズマ デポジション
プラズマ CVD (PECVD)誘導結合プラズマCVD (ICPCVD)化学気相堆積 (CVD)
原子スケール
原子層堆積 (ALD)原子層エッチング (ALE)原子スケールプロセス (ASP)
マテリアル & プロセスSiCSiO2Al2O3CrAlGaN/GaNBrowse more...
プロダクト
ICP RIE エッチングPlasmaPro 80 ICP RIEPlasmaPro 100 Cobra ICP RIEPlasmaPro 100 Cobra GaAs VCSELPlasmaPro 100 Polaris ICP RIERIE エッチングPlasmaPro 80 RIEPlasmaPro 100 RIEPlasmaPro 800 RIE
DSiE シリコン深堀エッチング
PlasmaPro 100 Estrelas DSiE
PECVDPlasmaPro 80 PECVDPlasmaPro 100 PECVDPlasmaPro 800 PECVDICPCVDPlasmaPro 100 ICPCVDCVDPlasmaPro 100 Nano CVD
ALD 原子層堆積Atomfab ALDPlasmaPro ASPFlexAL ALD
ALE 原子層エッチング
PlasmaPro 100 ALEPlasmaPro 100 with Etchpoint
イオンビーム
Ionfab IBEIonfab IBD
ソフトウェア
PTIQ ソフトウェアSECS/GEM ソフトウェア
Semi Interface Autumn 2024 - Oxford Instruments Plasma Technology
ライブラリ
ブログSemi Interface MagazineプロセスNewsビデオウェビナーWhite paper (技術資料)導入事例カスタマーギャラリーユーザーからの論文のご紹介
サポート
Service & Support
サービス契約アップグレード & ソフトウェアPTIQ ソフトウェアスペアチームビュワーService Blog & FAQs
Training CoursesIntroductory Level CoursesIntermediate Level CoursesAdvanced Level CoursesSpecialist Training Modules
Raise a Support Ticket
お問い合わせ
Oxford Instruments - TSIA STAR Awards Finalist
お問い合わせ
ショップ
ニュース
イベント
お問い合わせ
eコマース
  1. ホーム
  2. イベント

Plasma Technology Events

もっと探す
IR
投資情報を検索する

© オックスフォード・インストゥルメンツ 2025

このウエブサイトは、ミラマー・コミュニケーション Ltd